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接触镀层的其它设计考虑
接触镀层其它设计考虑有两种,两种考虑在一定程度上已经讨论过。即底层与接触润滑的应用。
两种主要使用的电连接器底层材料是铜和镍。如所讨论过的,镍的主要作用是作为接触镀层的底层以保持表面镀层的特性。铜,作为镀层的底层不能提供相同的功能。如所讨论的,铜是一种腐蚀源,铜蔓延能导致接触表面的退化。铜在提高接触镀层耐久性方面也不如镍有效。尽管存在这些---,在不可接受镍底层磁性的应用中铜仍然用作底层。
镍底层的第二个重要作用连接有关,---可焊性-----是为可软焊产品提供一种活性(a shelf life)。
成功的焊接需要锡焊剂(tin of the solder)与基材金属衬底(base metal substrate)成份间产生金属间化合物。因为铜和镍与锡形成金属间化合物适合于焊接,因而作为底层以保持可焊性。保持可焊性的全部镀层系统包括底层和锡,金或钯表面涂层(coating)。不同系统分别有不同的保持可焊性机理。
涂锡或焊剂的表面是可熔的(fusible)。锡涂层在焊接过程中熔化并渗入到衬底表面产生的金属间化合物中。比较而言,金涂层表面是可溶解的(soluble),这意味着金完全溶解在焊剂里,金属间化合物在外露的底层形成。金涂层实质是保护了底层的可焊性。钯在熔剂里溶解则慢得多,焊剂的结合通常是与钯形成。
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连接器接触界面
接触界面的粗糙度或接触点模型可以描述如下:
接触界面是由分布于宏观接触区域上的接触点组成的。宏观接触区域的大小取决于接触界面的几何外形。接触点的数量和大小处决于表面粗糙度和负荷。负荷也决定了接触界面的光洁度。
这种模型描述了接触界面上的机械构形,但是它仅仅从微观上描述了接触界面的外形。然而,考虑精炼炉的细微表面,甚至其表面的原子或分子结构都是非常重要的。所有的金属表面都覆盖着一层原子数量级的薄膜。在金属表面的外层可能是大量的化合物薄膜。氧化物是常见的一种,其物质(如:---物、氯化物以及复合膜)也可能存在,这是由金属材料和金属暴露环境条件决定的。不同金属的热力学性能和运动学性能差异很大,热力学性能决定生成何种薄膜,运动学性能则影响薄膜的生成快慢。
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连接器应用词汇
alloy(合金):两种或多种金属的组合。
contact(端子):一连接构件的电传导部位,被设计予提供电气之接触或分离的接点(位置)。
contact area(接触区域):和ic引线或接点造成电气连接的接触表面。
contact aesistance(接触电阻):在连接位置处的电阻,是由端子形状、接触面积、电镀和正向力所定。
din:在电子工业界,特定某种连接器特性的欧洲标准。
gauge(量规):定义线径大小的一数字。
header:包含于绝缘体中一或多排的圆形或方形插梢。
ic(integrated clrcuit)种体电路。
idc(绝缘体被剥除的连接器):迅速和可---地大量连结平坦网线至一连接器的方法。
insertion force(插入力):插一公的引线进入母的插座所需要的力。
insertion resistance(绝缘阻抗):两端子间绝缘体所能承受的阻抗值。
insulater(绝缘体):一种非常差的电导体材料。一种介电材料。
mixroinch(微英英寸)百万分之一英寸,用于电镀厚度。
package(封装)一种体电路晶片被相互连接至外部导线架和使其避免受损的状况。
plating(电镀):电力性沉体非常薄和厚度的金属于底材金属的方法。
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